A ELETRODEPOSIÇÃO USANDO ÂNODO ATIVO
Por: Flavio Felicio • 26/1/2021 • Projeto de pesquisa • 1.375 Palavras (6 Páginas) • 139 Visualizações
ELETRODEPOSIÇÃO USANDO ÂNODO ATIVO
OBJETIVOS
Realizar uma eletrodeposição sem controle do potencial usando ânodo ativo.
Verificar a validade das Leis de Faraday.
INTRODUÇÃO
A passagem de corrente elétrica por um circuito constituído por condutores metálicos (eletrônicos) e condutores iônicos (eletrolíticos) é acompanhada de reações que ocorrem nas interfaces que separam uns dos outros tipos de condutores. Essas reações (ou melhor, semi-reações) são de oxidação ou de redução conforme o sentido da corrente elétrica que atravessa a interface.
Ocorrem semi-reações de oxidação quando a corrente elétrica convencional atravessa a interface do condutor metálico para o condutor iônico. Essas semi-reações, também chamadas de reações anódicas, podem ser genericamente representadas por:
Red1 → Ox1 + n1e−
onde Red1e Ox1são as substâncias redutoras e oxidantes e n1é um número inteiro. Ocorrem semi-reações de redução quando a corrente elétrica convencional atravessa a interface do condutor iônico para o condutor metálico. Essas semi-reações, também chamadas de reações catódicas, podem ser genericamente representadas por:
Re Ox2 + n2e → d2
onde Red2e Ox2tem o mesmo sentido dado anteriormente, as substâncias podendo, ou não, ser as mesmas e n2é um número inteiro.
As Leis de Faraday estabelecem relações quantitativas simples entre a quantidade de elétrons (ne-) e a quantidade de cada uma das substâncias participantes das reações do tipo 1 e 2.
Δm = εQ (forma consolidada das Leis de Faraday)
onde Δmé a variação de massa de uma certa substância (dissolvida no ânodo ou depositada no cátodo) e Q é a quantidade de carga que é dada pelo produto “corrente x tempo” quando a corrente é constante; ε é o equivalente eletroquímico, que depende da substância e de seu número de oxidação na reação escolhida. Assim, o equivalente eletroquímico é dado por:
[pic 1]
onde M é a massa molar da substância e F é a constante de Faraday (96485 Coulomb/mol). Nesta prática será verificada a validade das Leis de Faraday em um caso particular. Escolheu-se a semi-reação de redução no caso em que ela é provocada por um processo de eletrólise, mas especificamente, por uma eletrodeposição (niquelação) onde Ox2são os íons de Ni2+e Red2é o respectivo metal. A semi-reação de redução neste estudo é:
[pic 2]2
A semi-reação de oxidação ocorre na mesma cuba eletrolítica, onde o ânodo é constituído pelo Ni (MA = 58,7 g/mol) e é oxidado segundo a seguinte reação:
[pic 3]
O revestimento assim formado é constituído por uma película metálica que se interpõe entre o meio e o material que se quer proteger, neste caso aço. No entanto, como o níquel é mais nobre que o ferro do aço (maior potencial de redução), a película deve ser e permanecer isenta de descontinuidades, porque uma eventual falha provocará corrosão localizada na superfície do aço. Quando se trata de chapas finas, a massa do revestimento é freqüentemente expressada por unidade de área (A) assim,
[pic 4]
De um modo geral, o sucesso do processo de eletrodeposição depende da tensão e da corrente aplicada de modo a garantir as melhores condições para o cumprimento das Leis de Faraday. Na prática, o sucesso é real quando é possível obter depósito compacto, aderente, liso e brilhante que possa ser manuseado, lavado e secado sem perda de massa ou aparência. As características do depósito dependem de uma complexa combinação de fatores: tratamento da superfície do cátodo, composição do banho quanto às concentrações de cátions e do pH, agitação e temperatura do banho, etc. No entanto, densidades de corrente médias ou baixas, banhos de concentrações médias ou baixas e agitação constante parecem ser condições favoráveis em todos os casos.
PARTE EXPERIMENTAL
MATERIAIS NECESSÁRIOS
1 Béquer de 400 ml (cuba da célula eletrolítica).
1 Tampa de plástico provida de duas garras periféricas (pólo positivo) e um fio suporte central (pólo negativo) que asseguram as chapas metálicas constituintes dos eletrodos.
1 Chapa de aço de aproximadamente 90x30 mm que possa ficar suspensa no fio suporte da tampa.
2 Chapas de Ni de aproximadamente 90x30 mm que possam fixar-se nas garras da tampa.
1 Fonte de tensão e corrente contínuas (bomba de elétrons).
1 Amperímetro (ou um multímetro).
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1 Cronômetro.
1 Agitador magnético.
2 Fios providos de jacarés e/ou pinos para conexões.
2 Jacarés para sujeição da chapa do cátodo.
2 Lixas da água no80.
2 Pissetas, uma com água destilada e outra com etanol ou acetona.
1 Béquer de 250 mL para a lavagem da chapa de aço niquelada.
1 Detergente líquido.
1 Secador de cabelos.
1 Termômetro de 0oa 100oC.
Solução de NiSO4 1,0 M, pH ≈ 3,0, ~300 mL (banho tipo Watts).
PROCEDIMENTO
Entre as chapas disponíveis de níquel e aço, escolha aquelas que apresentem superfícies mais planas e lisas para servir como ânodo e cátodo, respectivamente. Logo, lixe-as bem e lave-as com detergente e enxágüe-as sucessivamente com água destilada e álcool ou acetona (uma boa limpeza é condição essencial para uma boa eletrodeposição). Segure as chapas pelas arestas e seque-as em uma corrente de ar. Cole uma fita adesiva plástica à chapa de aço de maneira de limitar a área submersa de 11 a 17 cm2. A partir de agora, essa chapa deve ser segurada só pela área coberta pela fita. Pese-a numa balança digital semi-analítica (precisão ± 0,001 g). Verifique se a montagem está completa, quanto ao posicionamento das chapas na tampa e ao nível do banho na cuba, o qual deve ficar, no mínimo, 1 cm debaixo das garras (Figura 1). Mediante o agitador magnético agite a solução de forma lenta e constante para favorecer a formação de um depósito mais homogêneo. Assegure-se que a chapa de aço fique firme sem balançar durante a agitação.
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