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Base, Óxidos, Ácidos e Sais na Indústria Farmacêutica

Por:   •  1/11/2021  •  Pesquisas Acadêmicas  •  301 Palavras (2 Páginas)  •  290 Visualizações

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Ácidos, Bases, Sais e Óxidos
na Indústria Farmacêutica


Solicitante: Prof. Renato Luis Tame Parreira


Bruna Liporoni RGM: 25842129
Evellyn Alves RGM: 26381231
Guilherme Aratani
RGM: 26520281
Vanessa Ribeiro
 RGM: 25348850

ÁCIDOS

  1. Ácido Glicólico C2H403

    [pic 1]      [pic 2]

  Aplicação: Agente Anti-Inflamatório, hidratante, esfoliante ou queratolítico, antiacneico, rejuvenescedor.

2. Ácido Retinóico C20H2802

[pic 3][pic 4]

Aplicação: Tratamento de acne vulgar, prevenção de rugas e hipercromia.

3.Ácido Salicílico C7H603
[pic 5]               [pic 6]

Aplicação: Caspa, dermatite seborreica, ictiose, psoríase, regularizador de oleosidade, esfoliante, acne, peeling químico.

4. Ácido Tranexâmico C8H15NO2

[pic 7][pic 8]   

Aplicação: Tratamento de hemorragias pós cirúrgicos, angioedema hereditário, profilaxia e tratamento de hemorragia pós cirúrgico dentário em hemofílicos, hiperpigmentação (melasma), clareamento de olheiras.

5. Ácido Sulfúrico H2SO4
[pic 9]
Aplicação: Utilizado em processos industriais na produção de[pic 10]

fertilizantes, baterias automotivas, papéis, tintas, processo de refino do petróleo e atua como catalisador em diversas reações químicas.

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Bases

  • 1- Hidróxido de Magnésio Mg (OH)2

[pic 11][pic 12]

Aplicação: Indicado como laxante, para o tratamento da constipação ocasional, e como antiácido, para alívio de azia, má digestão, hiperacidez gástrica e flatulência.

  • 2-Hidróxido de Cálcio Ca (OH)₂

[pic 13][pic 14]

Aplicação: 3 -É o material de proteção pulpar mais aceito na prática clínica odontológica.

  • Hidróxido de Amônio NH₄OH

[pic 15][pic 16]

Aplicação:  4 -É usado na indústria de cosméticos como tinturas de cabelos, descolorantes e alisantes.

  • Bicarbonato de Sódio NaHCO₃

[pic 17][pic 18]

Aplicação: 5-Pode ser usado para vários fins, desde clarear os dentes, combater a acidez estomacal, limpar a garganta, etc.

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